Etude du nettoyage et de la préparation de surface du phosphure d'indium InP en chimie humide // Wet chemical cleaning and surface preparation of indium phosphide InP

Topic description

Les matériaux III-V et en particulier l’InP connaissent un essor important dans le domaine de la microélectronique grâce à leurs propriétés optiques et électriques.

Cependant, ces matériaux sont à la fois rares et couteux et il est donc primordial d’améliorer le rendement des dispositifs créés afin de réduire les déchets.

Des procédés de nettoyage efficaces diminuant la défectivité en surface doivent donc être développés. L’objectif principal de la thèse sera l’étude de la modification des propriétés physico-chimiques de la surface de l’InP suites à différents traitements chimiques.

On cherchera à développer des solutions de désoxydation, passivation et nettoyage des surfaces d’InP en associant des étapes de chimie et des prétraitements in-situ (plasma par exemple).

La stabilité de la surface de l’InP sera étudiée afin de comprendre les mécanismes en jeu en fonction de paramètres tels que : état de surface initial, chimies, exposition à une atmosphère donnée.

Les résultats permettront l’amélioration des performances des dispositifs optiques et électroniques (lasers, transistors HBT) ainsi que la montée en maturité des nouveaux types de substrat à base de matériaux III-V.

Les expériences seront réalisées en salle blanche sur les paillasses de chimie et sur des équipements. Les échantillons pourront être caractérisés par inspection optique, ellipsométrie, AFM, XPS.

III-V materials and in particular InP are experiencing significant growth in the field of microelectronics thanks to their optical and electrical properties.

However, these materials are both rare and expensive and it is therefore essential to improve the performance of the devices created in order to reduce waste.

Hence, effective cleaning methods that reduce surface defects need to be developed. The main objective of the thesis will be the study of the modification of the physico-chemical properties of the InP surface following different wet chemical treatments.

We will seek to develop solutions for the deoxidation, passivation and cleaning of InP surfaces by combining chemistry steps and in-situ pre-treatments (plasma for example).

The stability of the InP surface will be studied in order to understand the mechanisms involved according to parameters such as : initial surface state, chemistry, exposure to a given atmosphere.

The results will allow the improvement of the performance of optical and electronic devices (lasers, HBT transistors) as well as the development of new types of substrate based on III-V materials.

The experiments will be carried out in a clean room on chemistry benches and on automatic tools. The samples can be characterized by optical inspection, ellipsometry, AFM, XPS.

Pôle fr : Direction de la Recherche Technologique

Pôle en : Technological Research

Département : Département des Plateformes Technologiques (LETI)

Service : Service des procédés de Surfaces et Interfaces

Laboratoire : Laboratoire de préparation de surface épitaxie TTH

Date de début souhaitée : 01-10-

Ecole doctorale : Electronique, Electrotechnique, Automatique, Traitement du Signal (EEATS)

Directeur de thèse : RODRIGUEZ Philippe

Organisme : CEA

Laboratoire : DRT / DPFT / / LSET

Funding category

Public / private mixed funding

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